真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L

名稱（Name）

真空式等離子處理系統

型號（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系統（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中頻電源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

層數（Electrode of plies）

6（Option）

有效處理面積（Area）

500（L）*500（W）（Option）

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

產品特點：處理空間大，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，有效控制設備運行。

可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。

保養維修成本低，便于客戶成本控制。

高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。

應用范圍：主要適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。

淺談等離子清洗機國產之路的改進

    等離子清洗機分為國產和進口兩種，主要是針對客戶的要求來進行選擇配置的。等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有(機)污染物、油污或油脂。
    我們先說國產系列等離子清洗機（又名等離子設備）它是一種非破壞性的表面處理設備，它是利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態下，以電能將氣體轉化為活性*的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有(機)污染物進行超清洗，在極短時間內有(機)污染物就被外接真空泵*抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消(毒)和殺(菌)。等離子清洗器現已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。
    國產系列等離子清洗機是在國外等離子清洗器價格貴，難以推廣等缺點的基礎上，吸取了現有國內外等離子清洗器的優點，結合國內用戶的使用需求，采用*科技手段開發出的新型系列等離子清洗器。國產配置的等離子清洗機其性能已經能夠達到一些工件的處理要求了。如果是要求相當高的，比如說產品工件本身成本就很昂貴的，或者說產品工件本身對質量要求很苛刻的，可以選用進口等離子設備的配置。該產品除擁有其它等離子清洗機的優點外，更具有性能穩定、性價比高、清洗效率高、清洗效(果)好、保持的時間更長、清洗效(果)均勻、可重復性高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優點。產品能適應不同用戶對設備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。儀器性能、整機規格和清洗艙的尺寸可根據用戶的實際需要而特制。