Desktop Pro以共焦結(jié)構(gòu)支持一個或兩個陰極，在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時間內(nèi)抽氣至高真空(10-6托范圍)，這是需要快速轉(zhuǎn)換的多用戶環(huán)境中解決方案。

用途：

濺射 材料研究 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證

半導體故障分析 納米技術(shù) 化合物半導體

優(yōu)勢：

這一直流和射頻濺射系統(tǒng)將提高您的研究生產(chǎn)力，提供一致、可重復的性能，同時，可大幅節(jié)約測試環(huán)境的空間。